紅外氣體泄漏檢測儀,你要的都在這里!
發(fā)布日期：2022-03-09點(diǎn)擊次數：1203
半導體是電子產(chǎn)品的核心，信息產(chǎn)業(yè)的基石。半導體行業(yè)是國民經(jīng)濟支柱性行業(yè)之一，其發(fā)展程度是衡量一個(gè)國家科技發(fā)展水平的核心指標。近年來(lái)，為進(jìn)一步鼓勵國內半導體的整體發(fā)展，打破外國壟斷，增強科技競爭力，政府投入大量資金在國內建造很多集成電路制造廠(chǎng)。
由于半導體行業(yè)的特殊性，芯片的制造、加工工藝非常復雜，在芯片生產(chǎn)工藝中需要使用大量特殊的高純氣體且氣體毒性很強，這些氣體參與芯片生產(chǎn)后，殘余的少量氣體經(jīng)過(guò)凈化裝置處理后，通過(guò)固定污染源的方式排放至大氣環(huán)境中，如何監測特殊污染物排放量并采取適當的控制措施是半導體行業(yè)面臨的難點(diǎn)，現有的監測設備及分析手段無(wú)法用于半導體行業(yè)特殊污染物的檢測工作。
樂(lè )氏科技自主研發(fā)生產(chǎn)的9100FIR和進(jìn)口產(chǎn)品AtmosFIR兩款傅里葉紅外氣體分析儀，能夠很好地滿(mǎn)足半導體行業(yè)排污監測需要。傅里葉紅外氣體分析儀采用全光譜分析技術(shù)，一臺分析儀可以檢測在紅外光譜范圍內具有紅外吸收的全部氣體組分，目前儀器開(kāi)放的氣體標準定量紅外譜庫*涵蓋半導體行業(yè)特殊污染物因子，如NF3、SF6、CF4是半導體行業(yè)尤為關(guān)注的三種氣體污染物，關(guān)于這三種氣體的介紹如下：
NF3是一種強氧化劑，在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在芯片制造有大量運用；
SF6是一種理想的電子蝕刻劑，廣泛應用于微電子、芯片制造技術(shù)領(lǐng)域；
CF4是微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，四氟甲烷高純氣和高純氧的混合氣，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻；
NF3、SF6、CF4是半導體行業(yè)使用最多的三種氣體組分，由于用量很大，且為高純氣，除污染物的排放會(huì )涉及上述氣體組分，氣體的泄漏也會(huì )對人體和環(huán)境產(chǎn)生巨大影響和毒害。這些氣體組分會(huì )強烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織，濃度過(guò)高也會(huì )產(chǎn)生窒息的危險。因此在半導體行業(yè)針對上述氣體的應急監測及固定污染源排放監測顯得尤為重要。
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